電漿處理系統試片座溫控裝置
專利名稱 電漿處理系統試片座溫控裝置
專利證書號 I375732
專利權人 國立虎尾科技大學
專利國家 台灣,
發明人 魏進忠,洪政豪
應用領域 精密量測技術類
 
專利商品特色:
本發明係為一種電漿處理系統試片座溫控裝置,其包括一真空裝置、一試片座部、一電漿產生裝置、一供氣裝置、一脈衝偏壓裝置及一控溫裝置;此真空裝置具有一真空腔體容納前述元件;此試片座部的頂部至真空腔體的第一端部間形成一工作區;其底部至真空腔體的第二端部間形成一電漿產生區;此電漿產生裝置藉供氣裝置提供之反應氣體與脈衝偏壓裝置提供之電位而產生之電漿,大部份被限制於電漿產生區內,並藉電漿反覆衝擊試片座部之底部使其均勻升溫到工作溫度;而控溫裝置則設冷卻裝置與溫度感測裝置伸入試片座部內;以感測試片座部之即時溫度並增減冷卻效果,達到使試片座部維持工作溫度者,故,本案兼具可控制試片座部保持預定之工作溫度與可降低濺鍍污染等優點及功效。



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