一種射頻共濺鍍方式沉積製造塑膠基板導電膜之裝置
專利名稱 一種射頻共濺鍍方式沉積製造塑膠基板導電膜之裝置
專利證書號 I295325
專利權人 國立虎尾科技大學
專利國家 中華民國,
發明人 劉代山,李清庭,吳俊慶,林俊興
應用領域 光電與電子類
 
專利商品特色:
本發明係一種射頻共濺鍍系統同時濺鍍氧化銦錫與氧化鋅靶,以沉積製造塑膠基板透明導電膜之裝置,主要包含:一旋轉柱塞幫浦裝置、一渦輪分子幫浦裝置、二磁控式濺鍍槍、二功率匹配箱、一串聯且可以分別提供二磁控式濺鍍槍不同射頻功率之二電源供應器、一流量控制器、一氧化銦錫靶材、一氧化鋅靶材、一塑膠基板、一可旋轉式基板承載台及一冷卻水通道,利用共濺鍍方式摻雜氧化鋅材料,提高氧化銦錫透明導電膜的導電特性,並可以藉助共濺鍍時沉積條件的改變,控制透明導電膜的材料與光學特性。

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